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粉体喷涂工艺的技术发展趋势

发布时间:2016-05-11来源:http://www.yihongtz.com/news/36.html

   粉体喷涂工艺的技术发展趋势,高压电晕放电喷粉工艺:目前粉体喷涂的应用仍是以传统的高压电晕放电法最为常用,它依充电方式可分为电压式充电法及电流式充电法两种。现有的电压式充电技术会使喷枪在工件的喷涂距离减少时产    生相对更大的电场,使厂屏蔽及反向电离等问题恶化。而现有的电流式充电技术虽然较电压式充电先进,但仍会出现过度充电的问题,导致反向电离作用。
  最近,针对研究如何消除效应使高压电晕放电法有了新的发展,那就是由英国依路达公司推出的TEC总能量充电控制系统的新技术,这项技术使喷枪在工件喷涂距离减少时,能同时自动降低总的充电能量,使粉末颗粒不会受到过度充电,彻底克服屏蔽效应及反向电离等问题。这种技术将是传统的高压电晕放电法改造应用和发展的新方向。

   由于静电喷涂系统具备了特高的一次上粉率、均匀的粉末涂层和极佳的包封效果等优点,因此需要回收和循环使用的粉末量便能减至最少,更不需要担心旧粉比率太高带来的问题,并且能利用不同的设备和操作去满足大量生产的要求。在国外,特别是在欧洲,静电喷涂技术发展较快较成熟,它越来越频繁地应用于各种金属表面的涂装。在国内静电喷涂技术推广应用也很快。

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